離子輔助鍍膜技術（IAD）已被廣泛用來作為一種改善光學濾光片薄膜特性的工藝手段，多年的實踐研究結果表明：離子輔助鍍膜技術工藝對于改進光學濾光片薄膜的性質，改善濾光片薄膜的微結構、濾光片應力狀態(tài)與濾光片表面形貌具有良好效果，同時它還保持了真空熱蒸發(fā)技術能夠方便、迅速地制備各種濾光片薄膜的優(yōu)點。離子輔助鍍膜工藝的獨特技術是在高真空室中設置與蒸發(fā)源不發(fā)生相互影響的獨立離子源，用該源產生帶能離子束直接轟擊濾光片基片和生長薄膜不僅可以顯著增強膜基與濾光片膜層間的結合，而且可以起到增加存儲密度，消除柱狀品，提高濾光片膜層的致密度的作用。同時可以改變?yōu)V光片薄膜的機械性能和濾光片光學特性，以及化學成分和結構，從而凈化基片、提高鍍速和薄膜質量。
離子輔助鍍膜技術示意圖
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