窄帶濾光片的薄膜一般由低折射率和高折射率的兩種膜組成疊加后層數(shù)達(dá)幾十層每一層薄膜的參數(shù)漂移都可能影響最終性能；窄帶濾光片透過(guò)率對(duì)薄膜的損耗非常敏感，所以生產(chǎn)峰值透過(guò)率很高、半帶寬又很窄的濾光片對(duì)濾光片生產(chǎn)工藝的要求比較高。光學(xué)薄膜生產(chǎn)的方法有很多種，比如化學(xué)氣相沉積、熱氧化法、陽(yáng)極氧化法、溶膠凝膠法、原子層沉積（ALD）、原子層外延（ALE）、磁控濺射等，而不同方法生產(chǎn)出來(lái)的薄膜性能差異很大。

目前深圳納宏光電生產(chǎn)的窄帶濾光片采用的是國(guó)內(nèi)先進(jìn)的蒸發(fā)沉積薄膜工藝。

窄帶濾光片在真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)沉積過(guò)程中，真空室通過(guò)加熱或電子束轟擊進(jìn)行蒸發(fā)。在鍍膜膜料蒸發(fā)過(guò)程中，蒸汽冷凝到窄帶濾光片待鍍膜表面用特定的光學(xué)工藝保持膜層均勻。和其他技術(shù)相比，真空蒸發(fā)沉積可以容納更大的鍍膜尺寸，使用離子束輔助沉積（IAD工藝）可以增強(qiáng)鍍膜工藝強(qiáng)度，離子束轟擊于基片表面，可以讓窄帶濾光片的膜層縝密性更好膜層牢固度更好可以滿(mǎn)足更多的使用需求。

光學(xué)濾光片工藝加工系列：

怎么提高濾光片膜層強(qiáng)度？

窄帶濾光片生產(chǎn)工藝介紹

我們?cè)撛趺催x擇濾光片廠家呢？

濾光片膜層填充密度提高產(chǎn)品質(zhì)量？

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光學(xué)濾光片質(zhì)量和加工制造工藝的關(guān)系

工藝水平對(duì)濾光片的質(zhì)量的影響有那些？

真空鍍膜離子（PVD）鍍膜濾光片有什么優(yōu)點(diǎn)？

為什么鍍膜的時(shí)候有離子源的濾光片質(zhì)量比較好？

鍍膜濾光片基片清潔的不干凈會(huì)對(duì)濾光片有什么影響？

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